| 图纹面的照相制版工艺,例如:印刷工艺,半导体器件的加工工艺、其所用材料、原版、专用设备01相关目录 |
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001 新型阳图预涂感光平印版 002 稀土顺式聚异戊二烯负型光刻原胶的制备 003 胶印印版的亲水支持体材料、其制备方法及应用 004 用于平板印刷版制造的感光记录材料 005 加保护层的方法 006 改造图象的方法及其设备 007 微细光刻技术 008 照相制版的图象 009 一种用于对准第一和第二物体相关位置的方法及实现该方法的装置 010 在不规则印刷线路板表面导体上的高清晰度液态光致聚合物涂层的图案 011 银盐平印版材及其工艺方法 012 接触式工作膜片印刷机的夹具 013 平板制版装置 014 制版印刷合成彩色立体图象的方法 015 制作射线平版印刷用的掩膜的方法 016 获得具有超薄保护层的照相压印板的方法 017 角度尺全光刻法及其夹具 018 一种胶印材料 019 光固化涂层的制备方法 020 曝光印相用原版的制作方法 021 阳图预涂感光版无损伤快速再生法 022 转鼓式激光照排机 023 用于溶剂可显影的光刻涂层的含水的显影剂组成物 024 可显影的水溶性光敏陶瓷覆层组合物 025 光敏半水可显影的陶瓷涂层组合物 026 高反差高温栅的制造工艺与应用技术 027 彩色显象管荧光屏的光刻胶组合物 028 用流体加压法改进真空-层压焊掩涂层印刷电路板的构象 029 用流体加压法制造无气泡、有膜/液体焊掩膜涂层的印刷电路板 030 通过流体加压制造无气泡的、涂覆了液体焊掩膜的印刷电路板 031 用于光聚合组合物的可见光增感剂 032 改进的高速静电印刷静电感光板 033 记录网版影象的方法与设备以及由此产生的网版影象 034 具有光致分离层的光敏复制元件 035 固体成象系统 036 使可光硬化组合物收缩率降低的添加剂 037 利用通过相分离自限厚度的可光硬化组合物来实现固体成像的方法 038 制作光波导掩膜板的方法 039 三种新型的数字式接触网屏 040 在光刻胶中使用多支线型酚醛树酯的方法 041 固体感光树脂版反贴成型工艺方法 042 PVA感光树脂版的配方及工艺 043 激光散斑接触网屏及制造用的光学系统 044 利用含有核-壳聚合物的组合物进行固体成像的方法 045 利用自限厚度的可光硬化物质的固体成像方法 046 利用含空心球的可光硬化组合物的固体成像的方法 047 用多相可光硬化组合物进行固体成像的方法 048 通过近紫外辐射在高解像力的酸硬化抗光蚀剂中采用选择的光活性化合物的 方法 049 为改变全息图波长响应的干性薄膜方法 050 用于折射率成象的全息光聚合物组合物和元件 051 高感光度酸硬化抗光蚀剂 052 用于平视显示的改进全息光学组合器 053 改进的全息陷波滤波器 054 图像影调变换方法 055 图像层次变换法 056 从原稿的图象制作复制图象时的灰度等级变换方法 057 光敏半水液可显影的铜导体组合物 058 能在半水溶液中显影的光反应性树脂组合物 059 制作无偏色的复制图象所用的图象灰度变换法 060 具有改进反转特性的可光硬化静电元件 061 在光聚合物中形成反射全息图的全息光学元件 062 可半水溶液显影的光敏金导电体组合物 063 可水溶液显影的光敏铜导体组合物 064 使用光敏剥离材料的反转成像法 065 用于全息摄影的光聚合物薄膜 066 光学近场显微光刻方法及所用的显微光刻装置 067 可进行水处理的能以光分解方式产生金属离子的可光聚合成分 068 张紧片状记录材料的装置和方法 069 光敏树脂组合物及其使用方法 070 含有预着色和调色影像的重叠样张 071 用于记录体积透过型全息图的元件 072 制作互补图形以使用自持式掩模给半导体芯片曝光 073 正向作用的光刻胶 074 具有改善的机械性能的光化结构层制备方法 075 可水溶液显影的光敏金导电体组合物 076 供多层可调色光敏元件用的改进的弹性体层 077 可用水加工的光敏元件 078 碱水型显影光成像抗蚀剂 079 对长波长可见光光化辐射敏感的光聚合组合物 080 大面积紫外光刻(曝光)方法及其装置 081 凸版印刷制版工艺 082 彩色印像方法 083 图像的层次变换法 084 线阵或面阵制版曝光头 085 多色制版用墨版曲线的设定方法 086 一种负性感光印刷版及其制法 087 X射线聚束光刻法及其装置 088 绘图、制图复印印字方法 089 大网点印刷制版方法 090 金属照片及其制做方法 091 加网分色和制版的方法及装置 092 褪色彩色照片原稿的层次变换法 093 机床刻度环光刻工艺方法 094 荫罩的图形印相版的制造方法 095 凹版印刷影印纸 096 用于制作圆光栅码盘的逐点光刻划方法及其系统 097 一种氧化铁版的制备方法 098 日光曝晒制版法及其装置 099 阳图预涂感光版无损伤优质再生法 100 有机聚合物膜的光增强扩散形成图案 101 圆柱表面投影式曝光方法 102 固体感光树脂印刷板材 103 在底物上形成带图案的聚酰亚胺涂膜的方法 104 标准化彩色投影片的制作方法 105 影像的资料与背景分离的方法 106 光抗蚀剂组合物及应用该组合物产生图形的方法 107 光敏材料 108 单色整页拼版系统 109 微小型结构及其制造方法 110 光固化的元件及其中使用的滑膜组合物 111 形成图形的方法 112 采用甲硅烷基化作用形成图形的方法 113 多能全息汉字编码及快速输入法 114 光掩模板 115 分色法感光彩色陶瓷烧结成像技术 116 光敏介电片材组合物和多层内连电路 117 图像的灰度等级变换法 118 彩色析像器 119 固体感光树脂版粘合层涂布工艺 120 双面对版曝光机 121 抗潜像衰变的远紫外敏感抗光蚀剂 122 静电制版的半色调技术方法 123 一种制作凸印版的方法 124 感光性树脂 125 去胶剂组合物 126 蜂房式网点结构 127 一种微米、亚微米电子束曝光机工作台的吊装系统 128 光子去胶机 129 含有非离子氟代烃表面活性剂的水性光刻胶 130 含具有磺酸官能度的带水光刻度 131 具有聚硅氧烷的带水刻胶 132 含有氨基丙烯酸酯中和的粘合剂的带水光刻胶 133 简易制版方法及其装置 134 光刻胶剥离液管理装置 135 一种用混合技术制作X光光刻掩模的方法 136 聚合物组合物以及表面脱粘的方法 137 用激光制图像的印刷版 138 印刷版用感光性树脂组合物和感光性树脂版材 139 制造网板印刷模板的方法和设备 140 利用相移掩模技术的光学制版方法 141 蚀刻闪光灯成象 142 彩色喷墨制版系统 143 半导体器件的图形对准标记 144 移相掩模及其制造方法 145 相移掩模 146 掩模原版和利用掩模原版测量掩模原版旋转误差的方法 147 一种掩模原版及用其测量挡板设定精度的方法 148 测量曝光装置分辨率用的光掩模 149 掩膜版 150 移相掩模的制作方法 151 半色调式相移掩模及其制造方法 152 设有显影速度测量图的光掩模及测量显影速度匀度的方法 153 形成光刻胶图形的方法 154 半色调式相移掩模及其制备方法 155 无水平版印刷版原版 156 相移掩模及其制造方法 157 用于光敏抗蚀剂层的显影剂 158 为微型机械装置提供牺牲分隔层的方法 159 曝光掩模 160 具有联合增稠剂的带水光刻胶 161 着色感光性树脂组合物 162 光掩模及其制造方法 163 光掩膜 164 高温稳定可感光成像组合物的新母体树脂 165 正性光刻胶 166 光掩膜及其制造方法 167 过程控制的方法和设备 168 曝光方法及其装置 169 用于制造半导体器件的光掩模的制造方法 170 无极网点技术 171 制造全息彩虹卷材纸的方法 172 光敏树脂组合物 173 负型光致抗蚀剂及形成光致抗蚀图的方法 174 一种量子线超微细图形的制作方法 175 改进的顶层防反射涂膜 176 处理光刻工艺中产生的废液的方法 177 新颖聚合物及用于可光成象的组合物中 178 聚酯预涂感光版及其制造方法 179 一种印字照片的拍摄方法 180 一种定位周期配置的亚微米物体的自动化和非可见方法 181 用于一步法印刷板的表面涂层 182 制造锥形的光聚合波导阵列的方法 183 用于喷砂保护层的光敏树脂组合物 184 采用离轴照明用来光刻布线图案的掩模版 185 利用中介层将薄膜层制成图样的方法 186 接触型热卡盘及其制造方法 187 紫外传感膜及其制法和用途 188 稳定的离聚物光刻胶乳状液及其制备方法和应用 189 多功能光接收器 190 制造光掩模的方法 191 感热式制板装置的光照射装置 192 蚀刻规版直接蚀刻工艺 193 感光性树脂组合物 194 含环氧树脂的水中可光成象的组合物 195 彩色印刷工艺和产品 196 光掩模坯料 197 在基片上形成聚酰亚胺图案的方法 198 形成光致抗蚀图形的方法 199 彩色复制图像的色调管理调整方法 200 用于扩散法制图的组合物 201 光敏树脂组合物 202 静电印制板制版法 203 感光性树脂组合物及其用于涂膜、抗蚀印色、抗蚀保护膜、焊料抗蚀保护膜 和印刷... 204 相移掩模 205 曝光装置 206 彩色析像器 |
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